【即時新聞】ASML新一代EUV設備準備就緒 晶片大廠將迎來AI量產新紀元

艾司摩爾 (ASML) 的高層向路透社透露，公司的新一代晶片製造設備已準備好供製造商投入大量生產，這標誌著晶片產業邁出的重要一步。這家荷蘭大廠是全球唯一的極紫外光微影 (EUV) 設備供應商，這類設備是晶片製造的關鍵環節。ASML 的技術長 Marco Pieters 表示，公司計畫在週四於聖荷西舉行的技術會議上發布相關數據，這代表了一個關鍵的里程碑，顯示新工具已具備量產能力。

簡化製程步驟並提升效能 助攻台積電與英特爾生產高階晶片

根據 ASML 的數據顯示，這款新工具將能消除晶片製造過程中數個昂貴且複雜的步驟，進而協助台積電 (TSM) 和英特爾 (INTC) 等晶片製造商生產更強大、更高效的晶片。隨著現有的 EUV 設備逐漸接近製造複雜 AI 晶片的技術極限，這款名為 High-NA EUV 的下一代機器，將成為 AI 產業改進聊天機器人（如 OpenAI 的 ChatGPT）的關鍵設備，並協助晶片製造商按時交付 AI 晶片藍圖以滿足激增的需求。

每台造價高達4億美元 設備正常運行時間目標年底達九成

這些新工具的成本約為 4 億美元，是原始 EUV 機器的兩倍。ASML 技術長指出，High-NA EUV 工具目前的停機時間有限，已經處理了 50 萬片餐盤大小的矽晶圓，並能繪製出足夠精確的電路圖案來構成晶片電路。目前設備的正常運行時間（uptime）約已達到 80%，公司計畫在今年底前將其提升至 90%。這些數據綜合顯示，新一代設備已準備好供製造商使用。

技術成熟度已達關鍵節點 客戶仍需兩至三年整合測試

儘管技術上已準備就緒，但 Pieters 也坦言，晶片公司仍需兩到三年的時間進行足夠的測試和開發，才能將其完全整合到製造流程中。他強調，客戶已具備驗證這些工具所需的所有知識，且經過大量的學習週期與測試。ASML 計畫發布的成像數據，足以說服客戶使用單一的 High-NA 步驟，來取代舊一代工具所需的多個繁複步驟，進而提升生產效率。

關於 艾司摩爾 (ASML)

ASML 成立於 1984 年，總部位於荷蘭，是用於半導體製造的光刻系統市場份額的領導者。光刻是使用光源將電路圖案從光掩模曝光到半導體晶片上的過程。這一領域的最新技術進步使晶片製造商能夠不斷增加同一矽面積上的電晶體數量，而光刻技術歷來佔製造尖端晶片成本的重要部分。晶片製造商需要 ASML 的下一代 EUV 光刻工具來繼續超越 5 奈米製程節點。ASML 的產品被各大半導體製造商所採用，包括英特爾 (INTC)、三星和台積電 (TSM)。

收盤價：1464.2110

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