【即時新聞】聯電受惠AI基礎設施外溢效應 成熟製程需求預期推升

聯電受惠AI基礎設施外溢效應 成熟製程需求預期推升
聯電受惠AI基礎設施建設外溢效應,美系大行指出將推升電源管理IC與連接晶片等成熟製程需求。券商預期2027年下半年成熟製程產能可能出現短缺,聯電有望受惠訂單回流與產能滿載。
成熟製程需求回溫
AI基礎設施建置帶動相關晶片需求增加,聯電作為全球前十大晶圓代工廠之一,成熟製程產能利用率有望維持高檔。
股價與法人動向
聯電股價於20260527收在143.50元,當日外資買超21530張,三大法人合計買超1921張,顯示法人近期呈現偏多操作。
後續觀察重點
投資人可持續追蹤成熟製程產能利用率與客戶訂單變化,2027年下半年供需狀況為重要觀察指標。
聯電(2303):近期基本面、籌碼面與技術面表現
基本面亮點
聯電主要營收來自晶圓代工,2026年總市值18048億元,本益比30.7倍。202604月營收22663.95百萬元,年增10.8%,連續多月呈現穩定成長。
籌碼與法人觀察
近一個月外資買賣超呈現正值,20260527外資買超21530張,投信賣超19011張,三大法人合計買超1921張,主力近五日買超7.9%,顯示法人與主力動向偏多。
技術面重點
截至20260430,聯電股價位於近60日區間高檔,當日收77.30元,成交量333288張,高於近期均量。短線股價上漲後需留意量能續航是否足夠。
後續觀察指標
聯電後續營運將受成熟製程供需影響,投資人可留意月營收表現與法人持股變化,避免單一事件帶來的波動風險。
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